Разработаны трёхмерные ячейки памяти ReRAM большой ёмкости
Друзья, с момента основания проекта прошло уже 20 лет и мы рады сообщать вам, что сайт, наконец, переехали на новую платформу.
Какое-то время продолжим трудится на общее благо по адресу
На новой платформе мы уделили особое внимание удобству поиска материалов.
Особенно рекомендуем познакомиться с работой рубрикатора.
Спасибо, ждём вас на N-N-N.ru
Новая методика создания ячеек трёхмерной энергонезависимой ReRAM-памяти (резистивная память с произвольной выборкой), представленная компанией Samsung Electronics (Южная Корея), позволяет использовать токи слабее 1 мкА для перезаписи информации, а также обеспечивает получение рабочего материала с высокой нелинейностью вольт-амперных характеристик.
Всё это позволяет избежать паразитных токов, способных изменять состояние соседних ячеек.
Кроме того, по словам разработчика, новые 3D ReRAM-ячейки способны выдерживать до 107 циклов перезаписи.
Компания Samsung ввязалась за разработку трёхмерной реализации памяти ReRAM (или VRRAM — вертикальной ReRAM) для того, чтобы наконец-то найти замену безнадёжной NAND-памяти. В общем и целом технология VRRAM позволяет получать уложенные друг на друга слои ячеек ReRAM-памяти в одном непрерывном процессе, что, помимо увеличения ёмкости самой памяти, позволяет снизить стоимость её производства.
Однако одним из основных условий безошибочного функционирования VRRAM-памяти является возможность использования максимально низких токов перезаписи информации. Наличие у материала нелинейных вольт-амперных характеристик позволяет достичь дополнительного увеличения плотности памяти посредством связывания нескольких соседних ячеек.
Рис. 1. Слева — обычная ReRAM; справа — схема вертикальной памяти VRRAM. (Иллюстрация Tech-On!).
В данном случае, для того чтобы получить нужный результат, учёные из Samsung определили допустимый диапазон плотности кислородных вакансий, точное выдерживание которого принесло желаемые вольт-амперные характеристики рабочего материала.
Кроме того, между электродом и плёнкой оксида переходного металла (материала ячейки памяти) был добавлен дополнительный туннельно-оксидный слой (слой оксида, обеспечивающий туннелирование электронов).
В результате удалось добиться предельно малого тока перезаписи информации (1 мкА), а также желаемой нелинейности вольт-амперных характеристик материала.
- Источник(и):
-
1. Tech-On!
- Войдите на сайт для отправки комментариев