Увеличить производительность транзисторов можно в обход закона Мура
Друзья, с момента основания проекта прошло уже 20 лет и мы рады сообщать вам, что сайт, наконец, переехали на новую платформу.
Какое-то время продолжим трудится на общее благо по адресу
На новой платформе мы уделили особое внимание удобству поиска материалов.
Особенно рекомендуем познакомиться с работой рубрикатора.
Спасибо, ждём вас на N-N-N.ru
Американские инженеры предложили способ повышения производительности транзисторов, отличающийся от постоянного сокращения их размеров, предсказанного основателем компании Intel Гордоном Муром. О своем исследовании они рассказали в журнале Nanotechnology.
Согласно закону Мура количество транзисторов, которое можно разместить на микросхеме одного размера, каждые два года увеличивается в два раза. Однако рано или поздно уменьшать транзисторы дальше станет невозможно. Авторы статьи предложили альтернативный путь в виде совмещения функций различных полупроводниковых устройств.
В качестве примера новой стратегии они предложили устройство, совмещающее в себе функции трех других: p-n диода, MOSFET и биполярного транзистора (это разные типы транзисторов: основанный на p-n переходе, с изолированным затвором и трехэлектродный соответственно).
«В то время как на современном оборудовании эти устройства можно производить отдельно, и часто требуется сложная схема для их совместной работы, мы можем создать один прибор, выполняющий функции трех устройств», — рассказал один из авторов разработки, инженер из Университета штата Нью-Йорк Чжи-Юнь Ли.
Разработка основана на использовании двумерного селенида вольфрама, недавно открытого представителя класса дихалькогенидов переходных металлов. Этот материал ценится при разработке электронных устройств, так как, в отличие от графена, ширину запрещенной зоны у него можно настраивать, изменяя толщину слоя проводника.
- Источник(и):
- Войдите на сайт для отправки комментариев