Разработана новая технология быстрой печати транзисторов

Все большее количество специалистов в области электроники приходят к тому мнению, что широкое и быстрое развитие нанотехнологий, приведет к скорой «смерти» существующую технологию метало-окисных полупроводников (complementary metal oxide semiconductor, CMOS). Правда, есть немало оппонентов этого мнения. Среди них доктор Ханс Сторк, который на состоявшемся недавно симпозиуме по нанотехнологиям (IEEE Nanotechnology Symposium) заявил о том, что технология CMOS еще длительное время останется основой электронной промышленности

.

В настоящее время по нынешней технологии CMOS в массовом масштабе изготавливаются чипы по технологии 32 нм, начинают уже появляться чипы, изготовленные по технологии 22 нм, а исследователи многих компаний стремятся к освоению технологии 16 нм. Однако этот процесс основан на дорогостоящем и медленном процессе литографии, возможности которого приближаются к своему пределу и для сохранения темпов дальнейшего развития электроники требуются новые технологии и новые материалы.

• Последним достижением в развитии микроэлектроники стала разработка учеными из Института биоинженерии и нанотехнологий (Institute of Bioengineering and Nanotechnology, IBN, Сингапур) новой технологии производства дискретных полевых транзисторов, которая может стать более быстрой, более точной и более дешевой заменой процесса литографии. В новом процессе используются лучи, состоящие из потока электронов и ионов, с помощью которых на подложку, помещенных в среду со специально подобранным составом газов, наносятся элементы полупроводниковых структур.

В своей статье, опубликованной в журнале Nanowerk, один из разработчиков новой технологии, Соменаз Рой (Somenath Roy), утверждает, что пока новая технология лучше всего подходит для быстрого создания прототипов и моделей будущих электронных приборов, чем методы, основанные на литографии.

• По его словам, новая одноступенчатая технология позволяет избежать длительного и трудоемкого процесса литографии, увеличивает точность изготовления, что положительно влияет на процент выхода готовых изделий. А более высокий уровень точности и более высокая производительность нового метода делают его идеальным решением для быстрого изготовления прототипов наноэлектронных приборов будущего. Последующая оптимизация технологии позволит вывести ее на уровень промышленного производства электронных схем наноуровня.

http://podrobnosti.ua/…/697621.html