15 ноября генеральный консул Финляндии в Санкт-Петербурге и представители городской Администрации торжественно откроют совместную лабораторию Beneq Oy и Санкт-Петербургского государственного электротехнического университета «ЛЭТИ».

В лаборатории будут проводиться исследования и испытания промышленных применений метода атомно-слоевого осаждения (ALD — Atomic Layer Deposition), а также осуществляться поддержка метода внедрения тонкоплёночных технологий на российских предприятиях.

ALD — перспективная нанотехнология, широкого применяемая в промышленности: от создания покрытий для остекления «умного дома» и иллюминаторов космических кораблей до компонентов гибкой электроники и «интеллектуальной одежды».

Основная цель деятельности компании Beneq Oy в России — это продвижение и развитие передовых тонкоплёночных технологий. Запуск лаборатории обеспечит возможности для создания и вывода на рынок новых продуктов и промышленных решений. Помимо фундаментальных и прикладных исследований в лаборатории будут также осуществляться: демонстрация возможностей метода ALD с применением мирового опыта в этой области, изготовление образцов и оказание услуг по нанесению покрытий.

«Создаваемые в лаборатории совместно с учеными ЛЭТИ продукты и решения будут реализовываться по всему миру, и мы уверены, что тонкоплёночные технологии скоро будут играть ключевую роль в модернизации российской экономики, — говорит Сампо Ахонен, генеральный директор Beneq Oy. — Запуск этой лаборатории увеличит конкурентоспособность российской науки в мире, а также ускорит процесс трансфера тонкоплёночных технологий от НИОКР до промышленного применения».

Официальное открытие лаборатории состоится 15 ноября в 12:00 по адресу: Санкт Петербург, ул. Профессора Попова, 5, 5-й корпус ЛЭТИ (Ст. метро «Петроградская») в ходе научно-технической конференции «Гибкая электроника», проводимой в рамках II Всероссийского научно-практического форума «Стратегическое партнерство вузов и предприятий высокотехнологичных отраслей (Наука. Образование. Инновации)».

Конференция завершится круглым столом с участием ведущих учёных и руководителей промышленных компаний, которые обсудят аспекты промышленного применения технологии ALD, а также развития тонкоплёночных технологий в России в целом.

В фойе аудитории также будет проводиться наглядная демонстрация преимуществ метода атомно-слоевого осаждения.