NanoWeek » » Dow Corning выпускает резист для электронно-лучевой литографии с высоким разрешением

Dow Corning выпускает резист для электронно-лучевой литографии с высоким разрешением

Друзья, с момента основания проекта прошло уже 20 лет и мы рады сообщать вам, что сайт, наконец, переехали на новую платформу.

Какое-то время продолжим трудится на общее благо по адресу https://n-n-n.ru.
На новой платформе мы уделили особое внимание удобству поиска материалов.
Особенно рекомендуем познакомиться с работой рубрикатора.

Спасибо, ждём вас на N-N-N.ru

Опубликовано Svidinenko в 25 июня, 2008 - 14:29 -->

Dow Corning Corp. (Auburn, Мичиган, США) приступила к продажам электронно-лучевого резиста (XR-1541), поддерживающего формирование рисунка с высоким (6 нм) разрешением.

XR-1541XR-1541

Чувствительность нового резиста еще недостаточно высока для массового производства наноэлектронных схем (компания работает над ее увеличением), но высокое разрешение позволит использовать выпускаемый резист в исследовательских целях. Резист XR-1541 может также использоваться при воспроизведении рисунка схем 1:1, что делает его перспективным для наноимпринт литографии.

Опубликовано в NanoWeek,


Пожалуйста, оцените статью:
Пока нет голосов
Источник(и):

Semiconductor: Dow Corning Spins E-Beam Photoresist