Ученые из Корнельского Университета (Cornell University) благодаря нанотехнологиям разработали новый метод производства электронных графеновых микрочипов. Его преимущество заключается в непосредственном выращивании графеновой пленки на кремниевой подложке.

Как известно, графеновые пленки толщиной всего в один атом характеризуются высокой механической прочностью и уникальными электропроводными характеристиками. Это идеальный материал для производства нанотранзисторов, если бы не сложность и дороговизна их производства.

Но похоже, что ученым из Корнелла удалось преодолеть трудности производства графеновых наноустройств. Об этом они сообщили в выпуске Nano Letters от 27 октября.

Ранее исследователи сумели вырастить графеновые листы на медной подложке, теперь им удалось сделать то же самое на пластине из оксида кремния, предварительно покрытой тонким слоем меди.

Рис. 1. Модель микрочипа с графеновыми пленками в качестве нанотранзисторов

После того, как нужное количество пленок вырастало, с помощью фотолитографии удаляли ненужные фрагменты, получая практически готовый микрочип, в составе которого был не один нанотранзистор. После фотолитографии химическим травлением ученые убирали медный слой-подложку.

«Как только вы вырастили пленки графена на кремниевой пластине, к ней применимы все стандартные методы производства микроэлектронных компонентов – фотолитография, травление и т.д.», – говорит один из исследователей, Джайвон Парк (Jiwoong Park).

Сейчас команда исследователей планирует создать полноразмерную четырехдюймовую кремниевую пластину с микрочипами, что продемонстрирует простоту и технологичность подхода в микроэлектронике.

Надеемся, что работа ученых будет полезна в развивающейся отрасли графеновых материалов, которую многие специалисты видят в качестве «наследника» традиционной кремниевой микроэлектроники.

Свидиненко Юрий