Компания Sokudo Co., Ltd. сообщила о новом техническом прорыве – запуске технологии нанесения и проявления фоторезиста – SOKUDO DUO, которая обеспечивает сверхвысокую производительность, необходимую для оптимизации современных фотолитографических процессов.

Оборудование, использующее новую технологию, включает в себя две независимых линии для одновременной обработки подложек, что существенно поднимает производительность процесса – до 250–300 подложек в час. При этом, производительность, в зависимости от конфигурации микросхемы, в основном, повышена за счет увеличения эффективного рабочего времени и снижения непроизводительного времени на простои и холостой ход.

SOKUDO DUO- первая серьезная технологическая платформа, созданная совместным предприятием фирм Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd., Япония и Applied Materials, Inc., США. Уже первые несколько промышленных внедрений в Японии и Азии подтвердили высокую продуктивность системы, как заявил генеральный директор компании г-н Тадахиро Сухара (Tadahiro Suhara).

Помимо исключительно высокой производительности, идеология технологии SOKUDO DUO обеспечивает очень высокую надежность процесса и, соответственно, оборудования. Поскольку производственная нагрузка равномерно распределяется между двумя технологическими линиями, скорость продвижения подложки может быть уменьшена даже для самых производительных режимов. Другой несомненный плюс системы – возможность работы в режиме нон-стоп. Даже если одна из линий остановлена на обслуживание, процесс не прерывается благодаря второй линии, при этом, соответственно не прерывается и фотолитографический процесс в целом.

Конструкция SOKUDO DUO повышает производительность до 40% на единицу оборудования. Исключительно высокая экологическая чистота и герметичность самой системы позволяют использовать значительно менее чистые производственные помещения по сравнению с традиционным оборудованием для нанесения, проявки и спекания фоторезиста.

Благодаря множеству новшеств в конструкции и технологии, внедренных в систему, платформа SOKUDO DUO способна поддерживать целый ряд сложных литографических процессов, включая иммерсионную технологию двойной экспозиции с использованием излучения ArF лазера.

Евгений Биргер